對下列產(chǎn)品及服務(wù)進行國際公開競爭性招標，于2024-01-12在 公告。本次招標采用傳統(tǒng)招標方式，現(xiàn)邀請合格投標人參加投標。1、招標條件項目概況:甬江實驗室因發(fā)展需要，需采購化學機械拋光機（金屬）設(shè)備、等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備、高深寬比磁控濺射設(shè)備各1套。資金到位或資金來源落實情況:項目所需資金已經(jīng)落實。項目已具備招標條件的說明:項目已具備招標條件。2、招標內(nèi)容招標項目編號:0762-2441CBNB2001招標項目名稱:甬江實驗室采購化學機械拋光機（金屬）等設(shè)備項目項目實施地點:中國浙江省招標產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):

序號	產(chǎn)品名稱	數(shù)量	簡要技術(shù)規(guī)格	備注
1	化學機械拋光機（金屬）設(shè)備	1套	將待拋光晶圓在一定的分區(qū)下壓力及拋光液(由超細磨料顆粒、化學氧化劑和表面活性劑等液體介質(zhì)組成的混合液)的作用下相對于一個拋光墊作旋轉(zhuǎn)運動，借助磨粒的機械磨削及液體介質(zhì)的腐蝕作用來選擇性完成對晶圓表面金屬材料（Ti、TiN、Ta、TaN、W、TiW、Cu等）去除，并獲得光潔表面。
2	等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備	1套	借助微波或射頻使氣體電離，局部形成等離子體，在較低的溫度下沉積薄膜。用于沉積SiO2、SiNx、SiON、P-doped SiO2、Ge-doped SiO2、BPSG、FSG等薄膜。
3	高深寬比磁控濺射設(shè)備	1套	使用磁控濺射方式用于深硅刻蝕后的硅通孔孔壁沉積阻擋層（Ti或Ta）及電鍍種子層（Cu），防止金屬與Si相互擴散的同時作為后續(xù)電鍍孔內(nèi)填充金屬的導電層。

3、投標人資格要求投標人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:3.1.1投標人必須是投標產(chǎn)品的制造商或投標產(chǎn)品的制造商授權(quán)的代理商，如為代理商需提供制造商針對本項目的授權(quán)書；是否接受聯(lián)合體投標:不接受未領(lǐng)購招標文件是否可以參加投標:不可以4、
未曾在中國電力招標采購網(wǎng)（www.alertpay.cn）上注冊會員的單位應(yīng)先注冊。登錄成功后根據(jù)招標公告的相說明下載投標文件！

項目 聯(lián)系人：李楊  
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備注：欲購買招標文件的潛在投標人,注冊網(wǎng)站并繳納因特網(wǎng)技術(shù)服務(wù)費后，查看項目業(yè)主，招標公告，中標公示等，并下載資格預(yù)審范圍，資質(zhì)要求，招標清單，報名申請表等。為保證您能夠順利投標，具體要求及購買標書操作流程按公告詳細內(nèi)容為準，以招標業(yè)主的解答為準本。

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